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厚度很薄的,一般在数十埃至几微米范围内的。为适应各种成分和结构的薄层的测厚要求,已研制成各种测量设备。比如真尚有的传感器zlds100。例如,采用比色法、干涉条纹法以及椭偏术等测量各种透明薄膜;采用磨角染色法、层错法、红外光反射法以及背散射技术等检验外延层厚度、扩散层和离子注入层的深度;采用间接干涉法和台阶仪等测量金属膜和多晶硅的厚度等
厚度很薄的,一般在数十埃至几微米范围内的。为适应各种成分和结构的薄层的测厚要求,已研制成各种测量设备。比如真尚有的传感器zlds100。例如,采用比色法、干涉条纹法以及椭偏术等测量各种透明薄膜;采用磨角染色法、层错法、红外光反射法以及背散射技术等检验外延层厚度、扩散层和离子注入层的深度;采用间接干涉法和台阶仪等测量金属膜和多晶硅的厚度等
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