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半导体晶圆承载定位结构支架

项目分类:3D模型 发布时间:2021-10-16 ID:328298

在半导体晶圆制造的全制程链路中,这类承载支架是贯穿多道工序的核心工装部件,从晶圆的光刻涂胶、刻蚀清洗、薄膜沉积到最终的检测分拣环节,都需要依托这类结构完成晶圆的稳定承托与精准定位,避免晶圆在工序流转、设备工位内的作业过程中出现位移、磕碰、边缘崩缺等问题,直接影响制程良率与生产节拍。不同于普通的平板载具,这款支架的结构设计充分考虑了晶圆制程中的特殊需求,首先是接触点位的布局,没有采用整面接触的承载方式,而是通过多点离散式支撑结构,仅在晶圆背面非功能区设置接触位,最大程度减少支架与晶圆的接触面积,既避免了接触区域的颗粒污染、划伤风险,也能适配湿法工艺中液体的快速流道、干法工艺中气流的均匀通过,减少工艺介质在晶圆与支架接触面的残留。从设计思路上看,这款支架首先匹配了标准晶圆的尺寸边界,支撑点位的分布严格对应晶圆的边缘安全区域,所有支撑凸台的高度保持一致,平面度公差控制在微米级,确保承托晶圆时不会出现局部翘曲,避免后续光刻、检测环节的对焦偏差。支架的主体框架采用了镂空式的结构设计,在保证整体结构刚性的前提下,尽可能削减了实体材料的占比,一方面降低了支架自身的重量,方便机械臂取放支架时的负载控制,另一方面也能减少工艺过程中支架本身的材料释气、颗粒脱落风险,适配洁净车间的使用要求。安装边界上,支架底部设置了标准化的定位卡槽,能够直接适配主流半导体制程设备的载台接口,不需要额外设计转接结构,即可快速完成在涂胶机、刻蚀机、清洗机、检测探针台等不同设备工位上的装夹固定,卡槽的配合公差经过严格校核,装夹后支架整体的位置重复精度可以满足高精度制程的定位要求。在功能特性上,支架的所有边角都做了圆弧钝化处理,没有尖锐的棱边结构,避免操作人员取放、设备自动转运过程中刮蹭晶圆的边缘,也减少了棱边位置积尘藏污的可能;支撑点位的顶端采用了低摩擦、低析出的接触结构设计,既可以保证晶圆放置时的顺滑定位,不会因为硬接触造成晶圆背面的压痕,也能耐受制程中常见的酸碱腐蚀、高低温工况,不会在反复的工艺循环中出现变形、材质劣化的问题。实际产线应用中,这类支架需要配合自动化传输线使用,支架两侧预留了机械夹爪的取放位,夹爪接触的位置做了加厚处理,能够承受反复夹取的作用力,不会因为长期使用出现夹持位置的磨损、变形,保证长期使用的定位精度稳定性。不同于定制化的专用载具,这款支架的结构具备较强的通用性,仅需要调整支撑凸台的相对位置,即可适配不同尺寸规格的晶圆承载需求,框架主体的结构不需要重新开模制作,能够大幅降低多规格产线的工装投入成本。在结构强度校核阶段,设计时充分考虑了满载状态下的受力分布,框架的加强筋布局沿着受力传导路径设置,即使在快速转运的启停过程中,支架整体的形变量也控制在允许范围内,不会因为形变导致晶圆移位、滑落。同时,镂空的结构也方便支架自身的清洗维护,使用后的支架经过酸碱清洗、高压喷淋、烘干工序时,清洗介质可以快速穿过镂空区域,不会存在积液、残留清洗液的死角,缩短支架的清洁周转时间,提升产线的运转效率。

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