玻璃硅片湿法蚀刻工艺用样品承载架

这款样品架是面向玻璃、硅片湿法蚀刻工序开发的专用承载工装，主要应用于半导体晶圆加工、光学玻璃湿法刻蚀、实验室小批量样件表面处理等场景，在湿法蚀刻产线的上料转运、药液浸泡、工序间暂存环节承担样件定位与承载功能，可适配单片或小批量叠放的薄型玻璃、单晶硅片样件，避免蚀刻过程中样件相互贴合遮挡药液接触区域，同时减少人工持取样件带来的表面划伤、药液沾附风险。在实际生产场景中，湿法蚀刻工序需要将待加工样件完全浸没于酸性或碱性蚀刻药液中，依靠药液的化学腐蚀作用去除样件表面指定区域的材料，过程中需要保证样件各待蚀刻面充分接触流动药液，同时避免样件与槽体、其他样件发生剐蹭，这款样品架的框架式结构采用镂空设计，侧边与底部预留了充足的通液间隙，药液可在架体内部自由循环流动，不会在样件表面形成药液滞留区，保证蚀刻速率的均匀性。从功能特性来看，架体设置了多组平行的卡槽结构，可将单片玻璃或硅片垂直插装固定，卡槽的间距经过合理设计，既保证相邻样件之间留有足够的药液流动空间，又能控制架体的整体外形尺寸，提升单批次蚀刻的样件装载量；架体一侧延伸出的长条形握持结构，可配合机械臂或专用夹具完成架体在药液槽、清洗槽、烘干工位之间的转运，操作人员无需直接接触架体高温或带药液的部分，提升工序操作的安全性。设计过程中优先考虑了耐化学腐蚀性能，整体结构采用无多余死角的方正框架设计，减少蚀刻药液在架体表面的残留，降低不同工序间的药液交叉污染风险；架体的安装边界适配常规实验室及中小批量产线的标准蚀刻槽尺寸，可直接放置于槽内的支撑台阶上，无需额外定制安装转接件，架体整体重心经过配平设计，即使满载样件放置于槽内也不会发生侧翻，插装样件后的整体高度低于蚀刻槽的安全液位线，保证所有样件可完全浸没于药液下方。架体的卡槽尺寸适配常规厚度的玻璃与硅片样件，卡槽边缘做了钝化处理，不会刮伤样件的抛光表面，同时卡槽的限位结构可避免样件在药液流动冲击下发生移位或脱落，在鼓泡蚀刻、超声辅助蚀刻的工况下也能保持样件位置稳定。