在锂电铜箔、精密电子金属箔材、特种功能薄膜的生产后端工序中,箔材厚度公差的控制直接决定下游产品的性能一致性,不少产线在完成箔材粗轧后,会存在局部厚度超差、表面微观不平度不达标的问题,这台薄箔研磨设备就是针对这类场景开发的专用加工装置,可将初始厚度100微米的金属薄箔稳定研磨至80微米的目标厚度,全程保证箔材受力均匀,不会出现局部过磨、箔面褶皱、撕裂等常见加工缺陷。从结构布局来看,设备采用长条形卧式机架设计,主体框架采用钢板折弯拼接成型,机架下部预留了操作维护的开口空间,既方便内部磨屑收集装置的日常清理,也能给研磨辊组的检修调整留出足够操作空间,机架上沿铺设高精度直线导轨作为箔材输送的运动基准,研磨执行机构通过滑座安装在导轨上,可根据不同箔材的加工幅宽、研磨进给量调整横向位置,适配不同规格的薄箔加工需求。设备的核心研磨单元采用双辊对压配合精密磨削的结构,其中支撑辊采用高硬度镀铬处理,表面粗糙度控制在Ra0.2以内,避免辊面瑕疵压印到箔材表面,研磨辊配套微量进给机构,单次进给精度可达1微米,可根据来料厚度的在线检测数据动态调整磨削深度,保证整幅箔材加工后的厚度公差控制在±2微米以内。箔材走料路径上配套多组柔性压持机构,采用聚氨酯材质的压条贴合箔面,在输送过程中始终保持箔材张紧度稳定,不会因为研磨过程中的切削力导致箔材偏移、起皱,机架侧面预留的圆形开口是除尘抽风口的安装位,可外接工业集尘系统,将研磨过程中产生的金属微屑及时抽走,避免碎屑附着在箔面或辊组表面造成箔材划伤。设计过程中重点考虑了薄箔加工的低受力特性,所有与箔材接触的结构件都做了圆角钝化处理,没有尖锐棱角,运动部件的运行速度做了梯度匹配,进料段速度略低于研磨段速度,保证箔材在进入研磨区时处于平直张紧状态,不会出现堆叠。设备整体的安装边界控制较为紧凑,不需要额外做复杂的地基处理,可直接对接现有箔材产线的出料端,也可作为独立工序单元放置在洁净车间内,整机的维护点都设置在设备外侧,日常更换研磨耗材、调整辊隙不需要拆解主体机架,能有效减少设备停机维护的时间。
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- 系统要求: STEP / IGES
- 软件分类: 机床

